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    硅片擴(kuò)散超聲波清洗機(jī)的擴(kuò)散方式

    更新時(shí)間:2024-05-31點(diǎn)擊次數(shù):1354
    硅片擴(kuò)散超聲波清洗機(jī)的擴(kuò)散方式主要圍繞其清洗過(guò)程進(jìn)行。
    清洗原理:
    利用超聲波的振動(dòng)能量和清洗劑的作用,高效地去除硅片表面的污垢、油脂、氧化物等雜質(zhì)。
    超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振動(dòng),通過(guò)清洗槽傳遞到清洗液中,形成“空化效應(yīng)”,將硅片表面的污垢擊碎并分散到清洗液中。
    清洗流程:
    將待清洗的硅片放入清洗機(jī)中。
    加入適量的清洗液,如去離子水、有機(jī)堿、Q325-B清洗劑、活性劑等。
    啟動(dòng)超聲波發(fā)生器,使清洗液產(chǎn)生振動(dòng)。
    清洗過(guò)程中,清洗液中的微小氣泡會(huì)附著在硅片表面,并隨著超聲波的振動(dòng)而產(chǎn)生沖擊力,幫助剝離硅片表面的污垢和雜質(zhì)。
    經(jīng)過(guò)一定時(shí)間的清洗后,硅片表面的污垢和雜質(zhì)會(huì)被剝離并分散在清洗液中。
    通過(guò)清洗液的循環(huán)流動(dòng),將剝離的污垢和雜質(zhì)排出清洗機(jī)。
    取出清洗完成的硅片,完成整個(gè)清洗過(guò)程。
    清洗方式選擇:
    硅片擴(kuò)散超聲波清洗機(jī)提供了多種清洗方式,包括但不限于純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗(如HF酸洗)等。這些清洗方式可以根據(jù)硅片表面的污垢種類和清洗要求進(jìn)行選擇。

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