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    硅片擴散超聲波清洗機的擴散方式

     更新時間:2024-05-31 點擊量:930
    硅片擴散超聲波清洗機的擴散方式主要圍繞其清洗過程進行。
    清洗原理:
    利用超聲波的振動能量和清洗劑的作用,高效地去除硅片表面的污垢、油脂、氧化物等雜質。
    超聲波發生器產生高頻振動,通過清洗槽傳遞到清洗液中,形成“空化效應”,將硅片表面的污垢擊碎并分散到清洗液中。
    清洗流程:
    將待清洗的硅片放入清洗機中。
    加入適量的清洗液,如去離子水、有機堿、Q325-B清洗劑、活性劑等。
    啟動超聲波發生器,使清洗液產生振動。
    清洗過程中,清洗液中的微小氣泡會附著在硅片表面,并隨著超聲波的振動而產生沖擊力,幫助剝離硅片表面的污垢和雜質。
    經過一定時間的清洗后,硅片表面的污垢和雜質會被剝離并分散在清洗液中。
    通過清洗液的循環流動,將剝離的污垢和雜質排出清洗機。
    取出清洗完成的硅片,完成整個清洗過程。
    清洗方式選擇:
    硅片擴散超聲波清洗機提供了多種清洗方式,包括但不限于純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗(如HF酸洗)等。這些清洗方式可以根據硅片表面的污垢種類和清洗要求進行選擇。

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