硅片超聲波清洗機(jī)的清洗原理

更新時間：2024-03-28

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硅片超聲波清洗機(jī)的清洗原理主要依賴于超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用。具體來說，清洗機(jī)將電能轉(zhuǎn)化為機(jī)械能，使清洗槽中的液體產(chǎn)生高頻振動，形成聲波。當(dāng)聲波作用于硅片表面時，會在其表面形成微小的氣泡并迅速破裂，從而產(chǎn)生強(qiáng)大的沖擊力，將硅片表面的污垢和雜質(zhì)剝離并分散在清洗液中。

這些氣泡在液體中振動并快速崩潰，產(chǎn)生微小的擦洗動作，從而去除硅片表面的顆粒。這一過程稱為空化作用，它有助于將污物層分散、乳化、剝離，達(dá)到清洗的目的。

此外，超聲波清洗機(jī)還包括超聲波發(fā)生器、清洗槽、輸送帶、過濾器、回收系統(tǒng)等部分。超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振動，通過清洗槽傳遞到清洗液中。輸送帶將硅片逐一輸送到清洗槽內(nèi)，而過濾器則用于過濾掉清洗液中的雜質(zhì)。回收系統(tǒng)可以將清洗液循環(huán)使用，減少浪費(fèi)。

注意的是，使用超聲波清洗機(jī)前需要對硅片表面進(jìn)行預(yù)處理，如去除表面的油脂和松散物質(zhì)，以確保清洗效果。此外，該清洗機(jī)不僅適用于硅片，還可用于清洗光學(xué)設(shè)備、塑料殘留物等其他材料，具有廣泛的應(yīng)用范圍。

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